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    美國NXQ紫外掩膜光刻機作用原理是怎樣的

    發布時間:2022-12-02   點擊次數:132次
      光刻是指利用光學復制的方法把圖形印制在光敏記錄材料上,然后通過刻蝕的方法將圖形轉移到晶圓片上來制作電子電路的技術。其中光刻系統被稱為光刻機,帶有圖形的石英板稱為掩膜,光敏記錄材料被稱為光刻膠或抗蝕劑。
      美國NXQ紫外掩膜光刻機原理是通過一系列的光源能量、形狀控制手段,將光束透射過畫著線路圖的掩模,經物鏡補償各種光學誤差,將線路圖成比例縮小后映射到硅片上,不同光刻機的成像比例不同。然后使用化學方法顯影,得到刻在硅片上的電路圖。
      美國NXQ紫外掩膜光刻機一般根據操作的簡便性分為三種類型:
      手動:指的是對準的調節方式,是通過手調旋鈕改變它的X軸,Y軸和thita角度來完成對準,對準精度可想而知不高了;
      半自動:指的是對準可以通過電動軸根據CCD的進行定位調諧;
      自動:指的是 從基板的上載下載,曝光時長和循環都是通過程序控制,自動光刻機主要是滿足工廠對于處理量的需要。
      美國NXQ紫外掩膜光刻機性能指標有以下這些?
      對準精度是在多層曝光時層間圖案的定位精度。
      分辨率是對光刻工藝加工可以達到的最細線條精度的一種描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以與光源、光刻系統、光刻膠和工藝等各方面的限制。
      曝光光源波長分為紫外、深紫外和極紫外區域,光源有汞燈,準分子激光器等。
      曝光方式分為接觸接近式、投影式和直寫式。

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